首页 > 精金石资讯 > 资讯详情

为什么授权越来越难了?

发布时间:2025-05-09 来源:精金石知识产权 阅读量:31

图片

近期,不仅发明人不理解,就连代理人也越来越搞不懂,为什么觉得有创造性的专利,被下发的审查意见通知书中认定为是常规技术手段或存在现有技术的结合启示呢?笔者觉得,原因之一可能有:本领域技术人员陷入了事后诸葛亮式的判断误区。
根据审查指南的相关记载:审查发明的创造性时,由于本领域技术人员是在了解了发明内容之后才作出判断,因而容易对发明的创造性估计偏低,从而犯“事后诸葛亮”的错误。本领域技术人员应当牢牢记住,对发明的创造性评价是由发明所属技术领域的技术人员依据申请日以前的现有技术与发明进行比较而作出的,以减少和避免主观因素的影响。
下面具体案例了解什么是专利审查中的“事后诸葛亮式的判断”。
案例情况



申请号:202010162293.9
发明名称:一种抛光装置
授权文本中的权利要求1为:

1. 一种抛光装置,其特征在于,包括:

支架(1),所述支架(1)内部设置有容纳腔;

吸附装置(2),设置在所述容纳腔内,适于吸附待抛光产品;

若干组彼此并排设置的滚刷结构(3),设于所述吸附装置(2)的上方,并可转动地连接在所述支架(1)上,适于对所述吸附装置(2)上的所述待抛光产品进行抛光;

第一驱动装置(4),固定连接在所述支架(1)上,并与所述滚刷结构(3)连接,适于驱动所述滚刷结构(3)相对所述支架(1)转动;

所述滚刷结构(3)包括:

滚刷杆(5),与所述第一驱动装置(4)固定连接;

滚刷(6),套设于所述滚刷杆(5)的外侧,所述滚刷(6)的外表面适于与所述待抛光产品接触;

所述滚刷杆(5)的内部设有中空通道,所述滚刷杆(5)与所述滚刷(6)对应的外表面上设有与所述中空通道连通的喷液孔(7);

所述滚刷杆(5)的一端与所述第一驱动装置(4)固定连接,另一端通过所述中空通道适于与液体源连接,使得使用时,液体源能够向滚刷杆(5)持续地供给液体,使得滚刷(6)能够保持自然膨化状态。

无效请求人主张证据



针对以上权1记载,无效请求人提供多个证据主张该权1不具备创造性,如下所示:
证据 1:公开号为 US2003/0143930A1(一种用于半导体工件正面化学机械抛光(CMP)的设备和方法),公开日为 2003 年 07 月 31 日的美国专利文件及其相关部分中文译文;
证据 2:公开号为 US6467120B1,公开日为 2002 年 10 月 22 日的美国专利文件及其相关部分中文译文;
证据 3:公开号为 US2010/0078041A1(一种带力控制的刷盒清洁器模块)公开日为 2010 年 04 月 01 日的美国专利文件及其相关部分中文译文。
基于以上证据,请求人主张:权1相对于证据1与证据2、证据3的结合不具备创造性。
【专利权人应对修改



针对请求人提供的多个证据以及主张,最终,专利权人在原权1的基础上,合并了以下方案作为新的权1:
所述支架(1)包括:支架本体(9);至少一个安装架(10),设于所述滚刷结构(3)的至少一端,所述安装架(10)与所述支架本体(9)围成所述容纳腔;所述安装架(10)的一端与所述滚刷结构(3)连接,另一端可转动地连接在所述支架本体(9)上,并带动所述滚刷结构(3)在高度方向发生靠近或远离所述待抛光产品的运动。”并陈述具有创造性的理由。
无效请求人主张理由



针对修改后的权1,请求人仍认为不具备创造性,主张理由(结合下图对比):
图片
↑涉案专利的结构示意图
图片
↑证据1的结构示意图
对比分析后,请求人认为:证据1中的滚筒组件、真空卡盘、主轴、滚筒相当于对应公开了涉案专利的滚刷组件、吸附装置、滚刷杆以及滚刷。因此,主张以上涉案专利与证据1的区别至少在于:
支架,支架内部设置有容纳腔,吸附装置设置在容纳腔内,支架包括:支架本体和至少一个安装架,安装架设于滚刷结构的至少一端,安装架与支架本体围成容纳腔,安装架的一端与滚刷结构连接,另一端可转动地连接在支架本体上,并带动滚刷结构在高度方向发生靠近或远离所述待抛光产品的运动。
而请求人主张以上区别被证据3公开,主张理由为:
图片
↑证据3的结构示意图
对比分析后,请求人认为:
①证据3中的“处理空间设于支撑架上”相当于公开了涉案专利的“支架内部设置有容纳腔”;
②证据3中的“洗刷组件、支撑架、枢转板”相当于对应公开了涉案专利的“滚刷结构、支架本体、安装架”;
也即是,以上区别(1)被证据3完全公开,不具备创造性。
是否陷入事后诸葛亮式的判断误区?



证据3虽然公开了洗刷组件、支撑架等结构,但其目的是实现对基板(即晶片)的全面清洗效果;在清洗过程中,进行移动基板,使之经过位于其两侧的冲刷组件进行清洗,且为确保两侧的洗刷组件同步转动而设置了滑块256、轨道255以及连杆257等;
而涉案专利和证据1都是涉及晶片的抛光领域,并不是证据3中的清洗领域;且涉案专利的抛光滚筒结构仅设于晶片的一侧,并不是设置两侧,同时是滚筒结构靠近晶片,而不是移动晶片靠近滚筒结构(与证据3不同);
也即是,本领域技术人员在看到涉案专利的技术方案之前,不会轻易想到将与涉案专利所属技术领域、操作原理、滚刷结构等不同的证据3结构应用到证据1中获得涉案专利的技术方案;因此,本领域技术人员看到涉案专利的技术方案之后才能想到其技术方案,这就是陷入了事后诸葛亮式的判断误区。
综上分析,证据3并未给出设置滚刷结构、支架本体、安装架等相关技术结合启示,且本领域技术人员需要付出一定的创造性劳动才能想到本申请中在晶片的一侧设置抛光滚筒以及对应的操作原理等技术构思。
【启发】



分析所属领域的技术人员是否有改进现有技术的动机,应当站位于涉案专利申请日前进行分析,而不应在了解了涉案专利的技术方案之后想到的,这就导致本领域技术人员事后诸葛亮式的判断误区;

在分析结构时,不仅仅只考虑现有技术中的某一个部件(技术特征)与涉案专利结构是否一致,还要适当考虑各个部件之间的配合原理(即工作原理)是否给到启示,也即是,不仅仅只考虑割裂的特征,还要合理性考虑组合后的结构特征以及对应的效果、原理等是否给到技术启示。


声明:本文仅供参考

供稿部门:精金石\实务部

作者:许兰兰



微信扫一扫
关注该公众号

010-82002851